5月會議預告|誠邀您參加成都表界面、杭州半導體會議,我們現場見!

成都

表界面科學跨越物質、能源和信息等眾多基礎學科,是催化、超導和芯片等國家重大戰(zhàn)略需求的共性科學基礎。全面展示我國表界面相關領域的最新研究進展,推動學科發(fā)展,為我國新質生產力的發(fā)展做出貢獻。由中國化學會物理化學學科委員會主辦,北京大學納米器件物理與化學教育部重點實驗室承辦。
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誠邀各位蒞臨優(yōu)尼康展位B64,探討表面測量的種種應用。

杭州

目前,第三代半導體材料(例如碳化硅、氮化鎵等)已經深入發(fā)展并得到廣泛應用,而以氧化鎵、金剛石和氮化鋁等為代表的第四代半導體材料也在逐步嶄露頭角,呈現蓬勃發(fā)展態(tài)勢。為促進全國范圍內第四代半導體學術、技術的交流合作和產業(yè)發(fā)展,在浙江省杭州市共同組織召開2025年第四代半導體技術研討會。
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參展設備
![]() F50 膜厚測量儀 | ||
F50可以非常簡單地獲得最大直徑450毫米的樣品薄膜厚度分布圖。采用r-θ 極坐標移動平臺,可以快速定位所需的測試點并且實時獲得測試厚度,大約每秒測試兩點。 | ||
相關應用:半導體制造(光刻膠、氧化物/氮化物/SOI、晶圓背面研磨);LCD 液晶顯示器(聚酰亞胺、ITO 透明導電膜);光學鍍膜(硬涂層、抗反射層);MEMS 微機電系統(tǒng)(光刻膠、硅系膜層)。 |
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Filmetrics F20 膜厚測量儀 | ||
您是想要知道薄膜厚度、光學常數,還是想要知道材料的反射率和透過率,F20都能滿足您的需要。僅需花費幾分鐘完成安裝,通過USB連接電腦,設備就可以在數秒內得到測量結果?;谀衬K化設計的特點,F20適用于各種應用。 | ||
相關應用:光刻膠、工藝薄膜、介電材料、硬涂層、Parylene、抗反射層、醫(yī)療設備、OLED、玻璃厚度、ITO與其他TCO。 |