KLA Zeta-20白光共聚焦顯微鏡基于ZDot技術(shù)而來。Zeta-20白光共聚焦顯微鏡可以對(duì)大部分材料和結(jié)構(gòu)進(jìn)行成像分析，從光滑到高粗糙度、低反射率到高反射率表面、透明到不透明介質(zhì)。KLA Zeta-20白光共聚焦顯微鏡使用模塊化設(shè)計(jì)理念，為用戶提供了一系列的硬件和軟件選項(xiàng)來滿足各種不同的測(cè)量需求，所有硬件安裝和操作都簡(jiǎn)單易用。
KLA Zeta-20白光共聚焦顯微鏡基于ZDot技術(shù)而來。Zeta-20 白光共聚焦顯微鏡可以對(duì)大部分材料和結(jié)構(gòu)進(jìn)行成像分析，從光滑到高粗糙度、低反射率到高反射率表面、透明到不透明介質(zhì)。KLA Zeta-20白光共聚焦顯微鏡使用模塊化設(shè)計(jì)理念，為用戶提供了一系列的硬件和軟件選項(xiàng)來滿足各種不同的測(cè)量需求，所有硬件安裝和操作都簡(jiǎn)單易用。
Zeta-20 白光共聚焦顯微鏡提供多種光學(xué)測(cè)試技術(shù)，以滿足用戶各種不同領(lǐng)域的測(cè)試需求。
ZDotZ點(diǎn)陣三維成像技術(shù)是Zeta所有系列產(chǎn)品的標(biāo)配技術(shù)，Z點(diǎn)陣獨(dú)特的明暗場(chǎng)照明方案結(jié)合不同物鏡幫助客戶測(cè)量“困難”的表面。
ZIC干涉反襯成像技術(shù)，實(shí)現(xiàn)納米級(jí)粗糙度表面的成像及分析。
ZSI白光差分干涉技術(shù)，垂直方向分辨率可達(dá)埃級(jí)。
ZI 白光干涉技術(shù)，大視場(chǎng)下納米級(jí)高度的理想測(cè)量技術(shù)。
ZFT反射光譜膜厚分析技術(shù)，集成寬頻反射光譜分析儀，可測(cè)量ULA+ 2et-20薄膜材料的厚度、折射率和反射率。
重復(fù)性和再現(xiàn)性
接觸式測(cè)量，適用于多種材料
測(cè)量軟材料的微力控制
梯形失真校正可大幅度減少側(cè)視圖造成的失真
弧形校正補(bǔ)償探針的弧形運(yùn)動(dòng)
KLA Zeta-20 白光共聚焦顯微鏡的原理是通過共聚焦原理實(shí)現(xiàn)樣品的高分辨率、高對(duì)比度的光學(xué)切片能力。它結(jié)合了傳統(tǒng)光學(xué)顯微鏡和激光共聚焦顯微鏡的特點(diǎn)，利用寬譜白光作為光源，通過空間濾波機(jī)制消除離焦光干擾，從而獲得高精度的三維圖像。
臺(tái)階高度 | 紋理 |
外形 | 應(yīng)力 |
薄膜厚度 | 缺陷檢測(cè) |
ZDOT | ZI | ZIC | ZSI | ZFT | |
粗糙度：> 40nm | ● | ||||
粗糙度：<40nm | ● | ||||
大視場(chǎng)、Z方向高分辨率 | ● | ||||
15nm-25mm臺(tái)階高度 | ● | ||||
5nm-100μm臺(tái)階高度 | ● | ||||
<10nm 臺(tái)階高度 | ● | ||||
缺陷：尺寸 <1μm，高度 <75nm | ● | ● | ● | ||
缺陷：尺寸 >1μm，高度 >75nm | ● | ||||
30nm<薄膜和厚度 <15μm | |||||
薄膜厚度 >15μm | ● |
自動(dòng)缺陷檢查
臺(tái)階高度
